Substratverarbeitungsverfahren und Substratverarbeitungsvorrichtung

EP4752830 3. Juni 2026

Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4752830
Anmeldetag
12. Mai 2021
Veröffentlichung
3. Juni 2026
Rechtsraum
EP
Offizieller Volltext

Abstract

A substrate processing method includes: a holding step of carrying a substrate into an inside of a chamber and holding said substrate; a supply step of supplying a fluid to the substrate on the inside of the chamber; an imaging step (S12) of sequentially imaging the inside of the chamber by a camera to acquire image data; a condition setting step (S11) of specifying a monitoring target from a plurality of monitoring target candidates in the chamber and changing an image condition based on the monitoring target; and a monitoring step (S13) of performing a monitoring process on the monitoring target based on the image data having the image condition corresponding to the monitoring target.

Anmelder

Firma
SCREEN Holdings Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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