Verfahren, Vorrichtung, Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen und Bewertungsvorrichtung

EP4752928 3. Juni 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4752928
Anmeldetag
29. November 2024
Veröffentlichung
3. Juni 2026
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/153, H01J37/21
Offizieller Volltext

Abstract

The present invention provides a method of determining data representative of a focal surface of an array of charged particle beams and/or a height of a sample surface in a multi-beam charged particle-optical device, the method comprising: projecting beams onto a sample location at a first relative position; determining first individual focus values for individual beams; displacing the sample relative to the array of beams along a distance to a second relative position; determining second individual focus values for individual beams; displacing the sample relative to the array of beams along a distance to a third relative position; determining third individual focus values for individual beams in the array; and determining the data representative of the focal surface of the array of beams and/or the height of the sample surface based on the first individual focus values, the second individual focus values and the third individual focus values.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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