Verfahren zur Auswahl einer Fokusposition einer Optischen Vorrichtung für Geladene Teilchen und Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4752929
- Anmeldetag
- 2. Dezember 2024
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/21
Abstract
A method of selecting a focal position of a charged particle-optical device, the method comprising: directing a charged particle beam towards a target surface and detecting a detection signal resulting therefrom while varying the focal position of the charged particle beam through a range of focal positions, thereby generating a plurality of detection signals associated with the respective focal positions; and selecting a focal position of the charged particle-optical device, wherein the selected focal position corresponds to a dip in the detection signal across the range of focal positions.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven