Verfahren zum Aufbau eines mit Petrophysischen Parametern Besetzten Reservoirmodells
EP4754568
6. Februar 2025
Anmelder: TotalEnergies OneTech 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4754568
- Anmeldetag
- 28. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 6. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01V20/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TotalEnergies OneTech
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
TotalEnergies OneTech
Forschungs- und Technologiesparte des französischen Energiekonzerns TotalEnergies, zuständig für Innovationen in Bereichen wie Raffinerie, Petrochemie und erneuerbare Energien.
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Plasseraud IP
Plasseraud IP · Paris