Spiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem Gitterstruktur und Verfahren zur Herstellung eines Spektralfilters

EP4756534 10. Juni 2026

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4756534
Anmeldetag
25. November 2019
Veröffentlichung
10. Juni 2026
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

A mirror for an illumination optical unit (4) of a projection exposure apparatus (1) comprises a spectral filter in the form of a grating structure (30), wherein the grating structure (30) has a maximum edge steepness (b) in the range of 15° to 60°.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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