Kammer mit Kontrollierter Atmosphäre und Neuer Architektur zum Laden/entladen
Anmelder: II-VI Delaware, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4757570
- Anmeldetag
- 1. Dezember 2025
- Veröffentlichung
- 10. Juni 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10P72/00
Abstract
This disclosure describes systems and methods for an annealing chamber that reduces oxygen infiltration from ambient air during the loading and unloading of a wafer. The wafer annealing chamber has an auxiliary port that is perpendicular to a plurality of exhaust ports. When the loading door is open, the plurality of exhaust ports are closed, and a pressurized zone is generated adjacent to the auxiliary port, in a throat of the annealing chamber.
Anmelder
- Firma
- II-VI Delaware, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanisches Unternehmen, das optische Komponenten, Laser und Halbleiterbauteile für Telekommunikation, Industrie und Sensorik entwickelt, Teil von Coherent.
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Geht auf die 1992 gegründete Kanzlei Dr. Volker Vossius zurück, firmiert seit 2015 als Zwicker Schnappauf & Partner, mit Standorten in München und Berlin. Schwerpunkt auf Biotechnologie, Chemie, Medizintechnik und Pharmazie, Website in sechs Sprachen abrufbar.