Flache Grabenisolation unter Verwendung eines Porösen Halbleiters
EP4762593
20. Februar 2025
Anmelder: Murata Manufacturing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4762593
- Anmeldetag
- 16. August 2024
- Veröffentlichung
- 20. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/76, H10D89/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Murata Manufacturing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Murata Manufacturing
Japanisches Elektronikunternehmen mit Sitz in Kyoto. Murata entwickelt und produziert elektronische Bauelemente wie Kondensatoren, Sensoren und Kommunikationsmodule für Elektronikgeräte.
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