Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen oder Optoelektronischen Vorrichtung und Elektronische oder Optoelektronische Vorrichtung
Anmelder: IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics / Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik, Brandenburgische Technische Universität Cottbus-Senftenberg 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4766099
- Anmeldetag
- 12. Mai 2025
- Veröffentlichung
- 24. Juni 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
The present invention relates to a method for fabricating an electronic or optoelectronic device (100). The method comprises the steps of:- providing a layer stack comprising along a stacking direction a wafer (105) and one or more dielectric mask layers;- structuring the one or more dielectric mask layers (107) by selectively etching at least one window into the one or more dielectric mask layers; and- selectively growing a nanostructure (102) of the electronic or optoelectronic device in the at least one window by means of epitaxy.
Anmelder
- Firmen
- IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics / Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik
Brandenburgische Technische Universität Cottbus-Senftenberg - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutsches Forschungsinstitut (Leibniz-Institut) mit Sitz in Frankfurt (Oder), das an Hochleistungs-Mikroelektronik forscht, darunter Silizium-Germanium-Technologien und Halbleiterschaltungen für Kommunikations- und Sensoranwendungen.
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Vertreten von
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Eisenführ Speiser
Eisenführ Speiser · München