Verfahren zum Ätzen von Iii-V-Materialien mittels Atomschicht
Anmelder: Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4766129
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2025
- Veröffentlichung
- 24. Juni 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10P50/24
Abstract
La présente description concerne un procédé de gravure par ALE d'un matériau III-V comprenant les étapes suivantes :a) placer dans une enceinte une structure comprenant une couche de matériau III-V (100),b)mettre en œuvre, dans l'enceinte, à une température de gravure, une ou plusieurs fois le cycle ALE suivant :- oxyder une surface de la couche de matériau III-V (100) avec un gaz oxydant, moyennant quoi une couche d'oxyde (110) est formée,- purger l'enceinte sous flux de gaz inerte,- exposer la couche d'oxyde (110) formée à une vapeur de chlorure de thionyle pour graver la couche d'oxyde (110),- purger l'enceinte sous flux de gaz inerte.
Anmelder
- Firma
- Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
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Vertreten von
-
Cabinet Beaumont
Cabinet Beaumont · Grenoble