Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP4766131

Anmeldetag

16. Dezember 2025

Veröffentlichung

24. Juni 2026

Rechtsraum

EP

Abstract

La présente description concerne un procédé de réalisation d'un dispositif électronique, le procédé comprenant les étapes successives suivantes :a) former, sur un substrat de support (101), un empilement d'électropolissage (109) comprenant :- une première couche (117) semiconductrice sacrificielle ;- une deuxième couche (113) semiconductrice de transport de charges ; et- une troisième couche (115) semiconductrice de protection de la deuxième couche (113), la troisième couche (115) étant interposée entre les première (117) et deuxième (113) couches et présentant un niveau de dopage strictement inférieur à ceux des première (117) et deuxième (113) couches ;b) former, du côté d'une face de l'empilement d'électropolissage (109) opposée au substrat de support (101), au moins une quatrième couche (121, 123, 125) à base de nitrure de gallium ; etc) retirer le substrat de support (101) par électropolissage de la première couche (117).

Anmelder

Firma

Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives

Land

🇫🇷 Frankreich