Verfahren und System zur Optimierung von Quelle, Maske und Wellenfront auf Basis eines Diffraktionsmusters zur Reduzierung von M3D-Fading
EP4767120
27. Februar 2025
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4767120
- Anmeldetag
- 31. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven