Vertikale In-Situ-Siliciumoberflächen auf Reaktionsgebundenem Siliciumcarbidkörper durch Kapillaraufstiegsmechanismus
Anmelder: II-VI Delaware, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4772493
- Anmeldetag
- 17. Juli 2025
- Veröffentlichung
- 8. Juli 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
A method of producing vertical silicon surfaces for mirror substrate applications is described. In some embodiments, methods as described herein may create a polishable silicon layer on a SiSiC surface.
Anmelder
- Firma
- II-VI Delaware, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanisches Unternehmen, das optische Komponenten, Laser und Halbleiterbauteile für Telekommunikation, Industrie und Sensorik entwickelt, Teil von Coherent.
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Geht auf die 1992 gegründete Kanzlei Dr. Volker Vossius zurück, firmiert seit 2015 als Zwicker Schnappauf & Partner, mit Standorten in München und Berlin. Schwerpunkt auf Biotechnologie, Chemie, Medizintechnik und Pharmazie, Website in sechs Sprachen abrufbar.