Potentialkorrektureinheit, Vorrichtung und Verfahren zur Verwendung der Potentialkorrektureinheit
EP4776324
15. Juli 2026
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4776324
- Anmeldetag
- 13. Januar 2025
- Veröffentlichung
- 15. Juli 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/04, H01J37/09
Abstract
The present invention provides a potential corrector unit for use in a charged particle beam assessment apparatus 41 for assessing a sample 208. The potential corrector unit comprises a potential corrector 300 configured to influence an electric potential at a peripheral region of a surface of the sample. The potential corrector is disposed upbeam of the sample.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven