Vorrichtung zur Positionierung Geladener Teilchen
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4776325
- Anmeldetag
- 14. Januar 2025
- Veröffentlichung
- 15. Juli 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
An apparatus for positioning a charged particle relative to a target location of a substrate, the apparatus comprising: a positioning magnetic field generator configured to generate a positioning magnetic field such that the charged particle follows a curved trajectory within the positioning magnetic field; and a substrate support configured to rotate the substrate so as to control a velocity of the charged particle relative to the target location.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven