Strahlungsquelle

EP4780142 22. Juli 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4780142
Anmeldetag: 17. Januar 2025
Veröffentlichung: 22. Juli 2026
Rechtsraum: EP
IPC: H05G2/00

Abstract

A radiation source comprising: an electron source configured to generate pulses of electrons; a laser source configured to generate a laser beam, the laser source and the electron source being arranged such that the pulses of electrons collide with the laser beam at an interaction point to generate output radiation; and an optomechanical component configured for adjusting an angle of incidence between the laser beam and the pulses of electrons at the interaction point.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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