Verfahren zur Bestimmung von Korrekturgewichten
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4782924
- Anmeldetag
- 28. Januar 2025
- Veröffentlichung
- 29. Juli 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
The present invention provides a method for determining a set of correction weights to correct data relating to height measurements of a substrate comprising a plurality of fields to be exposed, the method comprising: obtaining height data relating to a plurality of illumination settings of measurement radiation used to perform a measurement, where each illumination setting comprises a different wavelength, polarization, angle of incidence, or any combination thereof; and determining at least one of: a) one or more correction weights to minimize variation of intrafield height data, and/or b) one or more correction weights such that the height data across the plurality of fields is largely equivalent.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven