Verfahren zur Bestimmung von Korrekturgewichten

EP4782924 29. Juli 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4782924
Anmeldetag
28. Januar 2025
Veröffentlichung
29. Juli 2026
Rechtsraum
EP
IPC
G03F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

The present invention provides a method for determining a set of correction weights to correct data relating to height measurements of a substrate comprising a plurality of fields to be exposed, the method comprising: obtaining height data relating to a plurality of illumination settings of measurement radiation used to perform a measurement, where each illumination setting comprises a different wavelength, polarization, angle of incidence, or any combination thereof; and determining at least one of: a) one or more correction weights to minimize variation of intrafield height data, and/or b) one or more correction weights such that the height data across the plurality of fields is largely equivalent.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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