Verfahren zur Ionenimplantation in ein Substrat

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP4783223

Anmeldetag

27. Januar 2025

Veröffentlichung

29. Juli 2026

Rechtsraum

EP

IPC

H01J37/317, H05H7/12

Abstract

Das Verfahren zur Ionenimplantation in ein Substrat (12) umfasst das Implantieren von Dotieratomen in das Substrat (12) und/oder Erzeugen von Defektstellen im Substrat (12) mittels Ionenimplantation unter Verwendung eines Energiefilters (20), wobei ein von einer lonenstrahlerzeugungsvorrichtung (11) erzeugter Ionenstrahl (10) zunächst durch den Energiefilter (20) hindurchtritt und anschließend in das Substrat (12) gelangt. Der Energiefilter (20) ist eine mikrostrukturierte Membran mit einem vordefinierten Strukturprofil zur Einstellung eines durch die Implantation hervorgerufenen Dotierstofftiefenprofils und/oder Defekttiefenprofils im Substrat (12). In einer Vielzahl von quer zur Strahlrichtung voneinander beabstandeten Bereichen (48) des Energiefilters (20), in denen der Energiefilter (20) einschließlich einer der Mikrostrukturen (50) in Strahlrichtung jeweils eine Ausdehnung (w) aufweist, die oberhalb einer vorbestimmten Grenze liegt, wird eine partielle Implantation von Fremdatomen mittels des lonenstrahls (10) durchgeführt und somit eine Vielzahl von voneinander beabstandeten, mit den Fremdatomen implantierten Implantationsbereichen (52) im Energiefilter (20) gebildet.

Anmelder

Firma

mi2-factory GmbH

Land

🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete