Verfahren zur Herstellung einer Optoelektronischen Vorrichtung

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP4783794

Anmeldetag

16. Januar 2026

Veröffentlichung

29. Juli 2026

Rechtsraum

EP

Abstract

La présente description concerne un dispositif optoélectronique comprenant une couche en NiOx recouverte et en contact avec une couche de pérovskite, la couche en NiOx étant une couche monolithique avec x compris entre 0,8 et 1,2 et de préférence entre 0,9 et 1,1.Elle concerne également un procédé de fabrication d'un dispositif optoélectronique comprenant les étapes suivantes :- déposer une couche en NiOx avec x compris entre 0,8 et 1,2 et de préférence entre 0,9 et 1,1 par ablation laser pulsée à partir d'une cible de NiO en présence de dioxygène ou d'un mélange de gaz contenant du dioxygène, la pression du dioxygène ou du mélange de gaz est étant de plus de 0,01 mbar, et de préférence d'au moins 0,1mbar,- une étape au cours de laquelle une couche en pérovskite est déposée sur la couche de NiOx.

Anmelder

Firma

Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives

Land

🇫🇷 Frankreich