Verarbeitungsverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements, Programm und Verarbeitungsvorrichtung
Anmelder: Kokusai Electric Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4790742
- Anmeldetag
- 4. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 10. April 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065
Abstract
The present invention comprises a step of etching a film by carrying out a cycle a predetermined number of times, the cycle including (a) a step of supplying a reformed gas to the film, (b) a step of supplying an inert gas to the film, and (c) a step of supplying an etching gas to the film. At least a part of the duration of step (a) and the duration of step (b) overlaps.
Anmelder
- Firma
- Kokusai Electric Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
538 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Münchner Patentanwalt Thomas Verscht, Diplom-Physiker, berät zu Patenten, Marken und Designs für nationale und internationale Mandanten.