Systeme und Verfahren zur Verzerrungskorrektur in der Bildgebung mit Geladenem Teilchenstrahl

EP4792356 17. April 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4792356
Anmeldetag: 13. September 2024
Veröffentlichung: 17. April 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/147, H01J37/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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