Verfahren und Laservorrichtung zum Erzeugen eines Euv-Licht Emittierenden Plasmas eines Targetmaterials

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP4794138

Anmeldetag

2. Februar 2026

Veröffentlichung

19. August 2026

Rechtsraum

EP

IPC

H01S3/10, H05G1/02

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Laservorrichtung zum Erzeugen eines EUV-Licht emittierenden Plasmas (12) eines Targetmaterials (14), umfassend die folgenden Schritte: Erzeugen wenigstens eines ersten Hauptpulses (18) und wenigstens eines zweiten Hauptpulses (20) mit einer Pulszeitdifferenz (54), Zuführen des Targetmaterials (14) in eine Targetkammer (36), Auftreffen des wenigstens einen ersten Hauptpulses (18) und des wenigstens einen zweiten Hauptpulses (20) auf das Targetmaterial (14) mit einer Auftreffzeitdifferenz (50), wobei die Pulszeitdifferenz (54) größer als die Auftreffzeitdifferenz (50) ausgebildet ist.

Anmelder

Firma

TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE

Land

🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete