Prozesskammer zur Gasphasenabscheidung einer Halbleiterschicht, Vorrichtung zur Gasphasenabscheidung, Verfahren zum Heizen von Substraten in einer Prozesskammer und Verfahren zur Gasphasenabscheidung einer Halbleiterschicht
EP4795218
9. Juli 2026
Anmelder: Nexwafe GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4795218
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2025
- Veröffentlichung
- 9. Juli 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nexwafe GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland