Positionsmesssystem zur Messung einer Position Entlang eines Optischen Wegs

EP4796894 26. August 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4796894
Anmeldetag
25. August 2025
Veröffentlichung
26. August 2026
Rechtsraum
EP
IPC
G01B9/02, G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

A position measurement system is disclosed, comprising an interferometer system, a multimode optical fiber, and a processing unit. The interferometer system is configured to measure a position along an optical path, to output a position measurement signal representative of the position into the multimode optical fiber, which produces at its output a spatial intensity profile. One or more detectors detect the spatial intensity profile, each detector comprising a plurality of pixels, each pixel corresponding to a distinct spatial region of the spatial intensity profile. The processing unit analyses each distinct spatial region and performs a mathematical analysis between a plurality of distinct spatial regions to determine one or more properties related to mode dispersion of the position measurement signal. Based on the determined properties, the processing unit identifies disturbances and/or errors in the position measurement signal.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen