Kondensatorstruktur und Verfahren zu Ihrer Herstellung sowie Halbleiterbauelement mit der Kondensatorstruktur
Anmelder: Samsung Electronics Co., Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4797901
- Anmeldetag
- 23. Januar 2026
- Veröffentlichung
- 26. August 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
An example capacitor structure includes a lower electrode structure (70), a dielectric pattern (95) and an upper electrode (105). The lower electrode structure (70) includes a first lower electrode (65) on a substrate (10), and a second lower electrode (62) on a sidewall of the first lower electrode (65). The second lower electrode (62) includes an alloy of a first metal and a second metal. The dielectric pattern (95) is disposed on a surface of the lower electrode structure (70). The upper electrode (105) is disposed on a surface of the dielectric pattern (95). The second lower electrode (62) has a thickness varying in a vertical direction perpendicular to an upper surface of the substrate (10). A weight ratio between the first metal and the second metal is uniform in the vertical direction in the second lower electrode (62).
Anmelder
- Firma
- Samsung Electronics Co., Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
Südkoreanischer Elektronikkonzern und Teil der Samsung-Gruppe. Entwickelt und produziert Halbleiter, Speicherchips, Displays, Smartphones, Unterhaltungselektronik sowie Haushaltsgeräte für den globalen Markt.
72.110 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Marks & Clerk LLP
Marks & Clerk LLP · Luxembourg