Chemisch Verstärkte Positivresistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4800479
- Anmeldetag
- 27. Februar 2026
- Veröffentlichung
- 2. September 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004, G03F7/039
Abstract
A chemically amplified positive resist composition is provided comprising a polymer comprising repeat units having a cyclic acetal structure fused to an aromatic ring and a photoacid generator capable of generating an arene sulfonic acid. The resist composition has a high solvent solubility, sensitivity and contrast, and improved lithography properties including resolution and LER as well as minimal development defects and etching resistance.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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