Substratverarbeitungsverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements, Programm und Substratverarbeitungsvorrichtung

EP4800740 1. Mai 2025

Anmelder: Kokusai Electric Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4800740
Anmeldetag
25. September 2024
Veröffentlichung
1. Mai 2025
Rechtsraum
EP
Offizieller Volltext

Abstract

A method according to the present invention includes: (a) a step for setting the supply amount of a modifier on the basis of a relationship between the supply amount of the modifier and the characteristic of saturated adsorption of a raw material to a substrate; and (b) a step for supplying the modifier to the substrate on the basis of the set supply amount.

Anmelder

Firma
Kokusai Electric Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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