Sonnenschutzkosmetikum
Anmelder: NOF Corporation, Iwase Cosfa Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4803070
- Anmeldetag
- 23. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 8. Mai 2025
- Rechtsraum
- EP
Abstract
This sunscreen cosmetic contains components (A), (B), and (C). (A): 0.1-10 mass% of a polyalkylene glycol derivative represented by formula (I). (B): 2-40 mass% of an ultraviolet protective agent. (C): 0.01-10 mass% of a water soluble thickening agent. (I): Z-{O-(EO)a-(BO)k-H}m (in the formula, Z represents a residue obtained by removing at least one hydroxyl group from a polyhydric alcohol having three or more carbon atoms and having 3-6 hydroxyl groups, m represents an integer of 3-6, EO represents an oxyethylene group, BO represents an oxybutylene group, and EOs and BOs are bonded in a block-like manner. a and k represent the average number of added moles of EO and BO respectively, a is an integer of 1-50, and k is an integer of 1-50. The mass proportion of (EO)a with respect to the total 100 parts by mass of (EO)a and (BO)k is 10-75 parts by mass.)
Anmelder
- Firmen
- NOF Corporation
Iwase Cosfa Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
NOF Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen mit Schwerpunkt Öl- und Fettchemie sowie Lipiden für pharmazeutische Anwendungen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Medizintechnik, ergänzt um Farben und organische Chemie. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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Vertreten von
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impuls legal PartG mbB · München