Integrierte Schaltungsstrukturen mit Nanobandtransistoren und C-Clamp-Source-Drain-Kontakten

EP4804756 9. September 2026

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4804756
Anmeldetag
18. Dezember 2025
Veröffentlichung
9. September 2026
Rechtsraum
EP
Offizieller Volltext

Abstract

Disclosed herein are integrated circuit (IC) structures with nanoribbon transistors and C-clamp source and/or drain (S/D) contacts, and related methods and devices. In one aspect, an example IC structure may include a transistor having a channel portion in a nanoribbon, and a conductive contact to a region of the transistor, where the region is one of a source region or a drain region of the transistor and where, in a cross-sectional side view of the IC structure, the conductive contact has a C-shape.

Anmelder

Firma
Intel Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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