Integriertes Schaltungsgehäuse mit einem Substrat mit dem Ersten Ansatz von Leitfähigen Kontakten auf der Gehäusesubstratseite
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4804784
- Anmeldetag
- 5. Dezember 2025
- Veröffentlichung
- 9. September 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10W72/20
Abstract
Accordingly, substrates for multi-die IC packages, and related assemblies, devices and methods, are disclosed herein. For example, in some embodiments, a substrate may include a dielectric material having a first surface and an opposing second surface, wherein the first surface includes a protruding portion; a conductive contact on the protruding portion of the first surface of the dielectric material; and a conductive pathway through the dielectric material and coupled to the conductive pathway. In some embodiments, the protruding portion of the first surface of the dielectric material has a thickness between 3 microns and 10 microns.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
26.664 Patente in unserer Datenbank