Integriertes Schaltungsgehäuse mit einem Substrat mit dem Ersten Ansatz von Leitfähigen Kontakten auf der Gehäusesubstratseite

EP4804784 9. September 2026

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4804784
Anmeldetag
5. Dezember 2025
Veröffentlichung
9. September 2026
Rechtsraum
EP
IPC
H10W72/20
Offizieller Volltext

Abstract

Accordingly, substrates for multi-die IC packages, and related assemblies, devices and methods, are disclosed herein. For example, in some embodiments, a substrate may include a dielectric material having a first surface and an opposing second surface, wherein the first surface includes a protruding portion; a conductive contact on the protruding portion of the first surface of the dielectric material; and a conductive pathway through the dielectric material and coupled to the conductive pathway. In some embodiments, the protruding portion of the first surface of the dielectric material has a thickness between 3 microns and 10 microns.

Anmelder

Firma
Intel Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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