Gepulste Strahlungsquelle und Beleuchtungsverfahren

EP4811036 23. September 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4811036
Anmeldetag
18. März 2025
Veröffentlichung
23. September 2026
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00, G01N21/95
Offizieller Volltext

Abstract

A metrology tool for measuring a target on a substrate, comprising a moveable substrate support configured to support the substrate and move the substrate at a first velocity. The metrology tool further comprises a radiation source configured to emit pulsed radiation to illuminate the target, and a detector configured to detect diffracted or reflected pulse radiation from the target to measure the target. The detector has a resolution such that a multiplication of the pulse length of the pulsed radiation and the first velocity is not greater than 2x the resolution.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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