Gepulste Strahlungsquelle und Beleuchtungsverfahren
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4811036
- Anmeldetag
- 18. März 2025
- Veröffentlichung
- 23. September 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00, G01N21/95
Abstract
A metrology tool for measuring a target on a substrate, comprising a moveable substrate support configured to support the substrate and move the substrate at a first velocity. The metrology tool further comprises a radiation source configured to emit pulsed radiation to illuminate the target, and a detector configured to detect diffracted or reflected pulse radiation from the target to measure the target. The detector has a resolution such that a multiplication of the pulse length of the pulsed radiation and the first velocity is not greater than 2x the resolution.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.388 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven