Positionssteuerungsverfahren für eine Bühne, Bühne und Lithografische Vorrichtung mit der Bühne
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4811037
- Anmeldetag
- 18. März 2025
- Veröffentlichung
- 23. September 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00
Abstract
The present disclosure provides a position control method for a stage comprising a long-stroke module and a short-stroke module, the method comprising: providing a short-stroke trajectory setpoint; determining a long-stroke feedforward force; applying a first filter (N) to the long-stroke feedforward force; determining a short-stroke feedforward force; applying the first filter (N) to the short-stroke feedforward force; and determining a feedforward position correction by applying a position correction filter (Q) to the short-stroke trajectory setpoint.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven