Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Derartigen Optischen Abbildungssystem

WO2010091840 Art A1 19. August 2010

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010091840
Aktenzeichen: EP10703626
Anmeldetag: 10. Februar 2010
Veröffentlichung: 19. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B17/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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