Projektionsobjektiv für Euv-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit einem Folienelement

WO2013117343 Art A1 15. August 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013117343
Aktenzeichen: EP13704006
Anmeldetag: 8. Februar 2013
Veröffentlichung: 15. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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