Verfahren zur Beseitigung von Ablagerungen und Gasbehandlungsvorrichtung

WO2013157235 Art A1 24. Oktober 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013157235
Aktenzeichen: EP13778233
Anmeldetag: 12. April 2013
Veröffentlichung: 24. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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