Microlithographic projection exposure apparatus and method of correcting an aberration in such an apparatus

WO2015018424 Art A1 12. Februar 2015

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015018424
Aktenzeichen: EP13747645
Anmeldetag: 6. August 2013
Veröffentlichung: 12. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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