Euv-Lithographiesystem und Betriebsverfahren dafür

WO2016055330 Art A1 14. April 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands BV 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016055330
Aktenzeichen: EP15780800
Anmeldetag: 30. September 2015
Veröffentlichung: 14. April 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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