Optisches System, Lithographievorrichtung und -Verfahren

WO2018033557 Art A1 22. Februar 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018033557
Aktenzeichen
EP17757724
Anmeldetag
16. August 2017
Veröffentlichung
22. Februar 2018
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20G02B7/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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