Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Reduzierter Thermischer Deformation

WO2018065180 Art A1 12. April 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018065180
Aktenzeichen: EP17772627
Anmeldetag: 13. September 2017
Veröffentlichung: 12. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von