Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage oder ein Inspektionssystem

WO2018134077 Art A1 26. Juli 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018134077
Aktenzeichen: EP18701113
Anmeldetag: 9. Januar 2018
Veröffentlichung: 26. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G02B27/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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