Verfahren und Vorrichtung zur Umwandlung von Messdaten einer Photolithografischen Maske für den Euv-Bereich von Ersten Umgebungen in Zweite Umgebungen

WO2018153654 Art A1 30. August 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018153654
Aktenzeichen: EP18704939
Anmeldetag: 6. Februar 2018
Veröffentlichung: 30. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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