Verfahren und Vorrichtung zur Analyse einer Fehlerhaften Position einer Photolithografischen Maske

WO2018162316 Art A1 13. September 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018162316
Aktenzeichen: EP18716103
Anmeldetag: 1. März 2018
Veröffentlichung: 13. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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