Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

WO2018177649 Art A1 4. Oktober 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018177649
Aktenzeichen: EP18707650
Anmeldetag: 15. Februar 2018
Veröffentlichung: 4. Oktober 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von