Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsvorrichtung für Mikrolithografie

WO2018219870 Art A1 6. Dezember 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018219870
Aktenzeichen: EP18731964
Anmeldetag: 28. Mai 2018
Veröffentlichung: 6. Dezember 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B13/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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