Reflektives Optisches Element für die Euv-Lithographie und Verfahren zur Anpassung einer Geometrie einer Komponente

WO2019025109 Art A1 7. Februar 2019

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019025109
Aktenzeichen: EP18739487
Anmeldetag: 3. Juli 2018
Veröffentlichung: 7. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/24G21K1/06G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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