Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

WO2019029990 Art A1 14. Februar 2019

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019029990
Aktenzeichen: EP18752692
Anmeldetag: 25. Juli 2018
Veröffentlichung: 14. Februar 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/00G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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