Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Verbesserter Komponentenjustage und Justageverfahren

WO2019137746 Art A1 18. Juli 2019

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019137746
Aktenzeichen: EP18826276
Anmeldetag: 17. Dezember 2018
Veröffentlichung: 18. Juli 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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