Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen eines Teilchens von einer Fotolithografischen Maske

WO2019206614 Art A1 31. Oktober 2019

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019206614
Aktenzeichen: EP19717464
Anmeldetag: 9. April 2019
Veröffentlichung: 31. Oktober 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/82

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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