Modul für eine Projektionsbelichtungsvorrichtung für Halbleiterlithographie mit einem Semiaktiven Abstandshalter und Verfahren zur Verwendung des Semiaktiven Abstandshalters

WO2020108892 Art A1 4. Juni 2020

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020108892
Aktenzeichen: EP19795525
Anmeldetag: 25. Oktober 2019
Veröffentlichung: 4. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G02B7/02G02B27/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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