Optisches Beleuchtungssystem für Projektionslithographie

WO2020108926 Art A2 4. Juni 2020

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020108926
Aktenzeichen: EP19801794
Anmeldetag: 5. November 2019
Veröffentlichung: 4. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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