Verfahren zum Bilden von Nanostrukturen an einer Oberfläche und Optisches Element

WO2020115111 Art A2 11. Juni 2020

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020115111
Aktenzeichen: EP19817218
Anmeldetag: 4. Dezember 2019
Veröffentlichung: 11. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/113G02B1/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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